(PM) Chemnitz/Jena, 27.02.2014 - Das Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS ist eines der führenden Forschungszentren innerhalb der deutschen Fraunhofer-Gesellschaft. Am ENAS soll die neue Elektronenstrahl-Lithografieanlage für die verschiedensten Anwendungen im Bereich der Mikro – und Nanotechnologieforschung zum Einsatz kommen.

Fraunhofer ENAS verfügt über spezifisches technologisches Know-How auf dem Gebiet der Smart Systems Integration sowie im Bereich der Mikro – und Nanosysteme und Mikro – und Nanoelektronik. Die Kernkompetenzen des Instituts liegen im Design, der Entwicklung, dem Test und der Zuverlässigkeitsbewertung von Komponenten und Systemen auf dem Gebiet der Verbindungstechnologien sowie der System Integration. „Die Entscheidung für die neue Elektronenstrahl-Belichtungsanlage von Vistec ist gefallen aufgrund der nachgewiesenen Flexibilität in der Nutzung insbesondere in Bezug auf Substrattypen und Materialien sowie der hohen Leistungsfähigkeit in Verbindung mit Bedienkomfort. Diese Eigenschaften sind für uns essentiell, um den hohen Anforderungen unserer Kunden und Partner in Wirtschaft und Industrie nicht nur heute sondern auch zukünftig gerecht zu werden.“, erklärt Professor Dr. Thomas Gessner, Direktor des Fraunhofer ENAS. Die Kaufentscheidung des Fraunhofer ENAS basierte auf dem Ergebnis eines europäischen Ausschreibungsverfahrens sowie damit verbundener umfangreicher Testungen.

Die Vistec SB254 ist eine universelle und leistungsfähige Elektronenstrahl-Lithografieanlage, die sowohl für das Direktschreiben als auch für die Maskenherstellung im Industrie und Forschungsbereich einsetzbar ist. Die Anlage ist in der Lage auf transparente und nichttransparente Materialien zu belichten, was ihren Einsatz für sehr verschiedene Anwendungen in der Optik und Halbleiterindustrie erlaubt. Kernkomponenten der Vistec SB254 sind die 50 kV basierte Elektronenoptik (Variabler Formstrahl), die 1 nm Addressierungsgenauigkeit sowie eine Geräteplattform mit einem Tischverfahrbereich von 210 mm x 210 mm. Damit ermöglicht diese Anlage die Herstellung von Strukturen mit einer Breite von kleiner als 20 nm auf Substraten, die vom Wafer-Bruchstück über maximal 200 mm Wafer-Substrate bis hin zu 7“ Maske reichen können. Optional kann die Anlage für die Charakterprojektion (Cell Projection) ausgerüstet werden. Eine grafische Benutzeroberfläche (GUI) und die vollautomatische Substrat-Handhabung (cassette-to-cassette), einschließlich der notwendigen Substratausrichtung sind insbesondere bei häufig wechselnden Nutzungsbedingungen unerlässliche Geräteeigenschaften, um einen hohen Anlagennutzungsgrad zu ermöglichen. Für die Datenvorbereitung steht das Softwarepaket ePLACE der Firma EQUICon Software GmbH zur Verfügung.

“Wir sind sehr froh über die Bestellung einer Vistec SB254 durch das Fraunhofer ENAS. Damit wird eine erfolgreiche Zusammenarbeit fortgesetzt, die vor mehr als 20 Jahren begonnen hat.“, kommentiert Wolfgang Dorl, Geschäftsführer der Vistec Electron Beam, den Auftragseingang.